產品型號：STR-TF60-12-4小型PECVD管式爐
電爐類型：高溫管式爐
電爐規格：
加熱溫度：1200
電爐系列：賽特瑞電爐
應用范圍：STR-TF60-12-4小型PECVD管式爐系統由STR-TF60-12管式爐、高真空分子泵系統、射頻電源系統及4通道高精度數字質量流量控制系統組成，是實驗室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等的不出選擇。。
STR?TF60-12-4小型PECVD管式爐系統由STR-TF60-12管式爐、高真空分子泵系統、射頻電源系統及4通道高精度數字質量流量控制系統組成，是實驗室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等的不出選擇。
小型PECVD管式爐系統在真空壓力下，加在電感線圈的射頻電場，使反應室氣體發生輝光放電，在輝光發電區域產生大量的電子。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量，其本身溫度很高，它與氣體分子相碰撞，使氣體分子活化。它們吸附在襯底上，發生化學反應生成介質膜，副產物從襯底上解吸，隨主氣流由真空泵抽走，稱為等離子體增強化學氣相沉(PECVD)。
PECVD具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質量好、針孔較少、不易龜裂等；PECVD工藝中由于等離子體中高速運動的電子撞擊到中性的反應氣體分子，就會使中性反應氣體分子變成碎片或處于激活的狀態容易發生反應；借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜；
主要用途：
小型PECVD管式爐系統可用于高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備，生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。
主要結構特點：
1、賽特瑞小型PECVD管式爐系統采用雙層殼體結構，箱體外殼板材采用加厚碳鋼與冷軋鋼板,經精密數控機床切割、折型、焊接成型而成，堅固耐用；
2、雙層爐殼間配有風冷系統，能快速升降溫，高溫度時爐殼外部溫度低。
3、表面采用雙色環氧粉末靜電噴涂，經噴漆高溫處理而成，腐蝕耐酸堿；雙色搭配，小型PECVD管式爐系統外觀新穎美觀、耐用！?
4、高真空系統由雙級旋片真空泵和分子泵組成，蕞高真空可達0.001Pa；
5、數字質量流量控制系統是由多路質量流量計，流量顯示儀等組成，實現氣體的流量的精密測量和控制；
6、每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統的安全性和連續均勻性；
7、采用KF快速法蘭密封，裝卸方便快捷；
8、管路采用Swagelok卡套連接，不漏氣；
9、超溫、過壓時，自動切斷加熱電源及流量計進氣，使用安全可靠。
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主要技術參數：
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STR?TF60-1200 開啟式管式爐 |
控溫方式 |
采用人工智能溫控儀表，具有PID調節、自整定功能，可編制30段升降溫程序。 |
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加熱元件 |
0Cr27Al7Mo2 |
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工作電源 |
AC220V?50Hz/60Hz |
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額定功率 |
4kw |
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爐管材質 |
高純石英管 |
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爐管尺寸 |
Φ60、Φ80*1200mm |
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工作溫度 |
≤1150℃ |
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設計溫度 |
1200℃ |
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恒溫精度 |
±1℃ |
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恒溫區 |
200mm |
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升溫速度 |
≤10℃/min |
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密封方式 |
不銹鋼快速法蘭擠壓密封 |
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分子泵真空系統 |
真空范圍 |
0.1-0.001Pa |
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極限真空 |
4.0*10^-4Pa |
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電爐配置 |
雙級旋片真空泵+分子泵 |
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測量方式 |
復合真空計 |
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真空規管 |
電阻規+電離規 |
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冷卻方式 |
風冷 |
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工作電源 |
AC220V?50、60HZ |
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抽速 |
110L/S |
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射頻電源系統 |
射頻功率輸出范圍 |
5~500W |
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射頻頻率 |
13.56MHz±0.005% |
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噪聲 |
≤55DB |
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冷卻方式 |
風冷 |
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功率溫定度 |
±?0.1% |
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4路質子混氣系統 |
流量規格 |
0－200sccm?（可根據客戶需要配置） |
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線性 |
±1.5%F.S |
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準確度 |
±1.5%F.S |
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重復精度 |
±0.2%F.S. |
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響應時間 |
≤8sec |
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耐壓 |
3MPa |
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氣路通道 |
4通道（根據客戶需求） |
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針閥 |
316不銹鋼 |
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管道 |
Φ6mm不銹鋼管 |
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接口 |
SwagelokΦ6mm |
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小型PECVD管式爐是由小型PECVD管式爐供應商洛陽賽特瑞智能裝備有限公司生產的,洛陽賽特瑞智能裝備有限公司可以加熱到1200度
小型PECVD管式爐是由小型PECVD管式爐生產廠家洛陽賽特瑞智能裝備有限公司生產的,可以聯系我們獲得電子版操作說明，以及遠程視頻指導
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