STR-TF100-1200III小型CVD系統有三溫區高溫管式爐、混氣系統、真空系統組成。

儀器名稱：三溫區高溫管式爐

儀器型號：STR-TF100-1200III

儀主要應用：廣泛應用于新能源材料，金屬材料，磁性材料，半導體材料，陶瓷材料，電化學，薄膜材料，CVD，MOCVD，PECVD，UPECVD，JPECVD，石墨烯的合成。

性能指標：

1. 真空管式爐：額定功率：5 kW

額定電壓：AC220~240 V 50 Hz

最高溫度：1200 ℃

額定溫度：1100 ℃

爐管尺寸：Φ100×14000 mm(可選)

加熱區長度：300+300+300 mm（3點控溫）

升溫速率：≤20 ℃/min

外型尺寸（長×寬×高）：1030×430×580 mm

重量：80 kg

2. 供氣系統GMF-3Z（質子流量計）：

外形尺寸：600×600×650 mm

連接頭類型：雙卡套不銹鋼接頭。

標準量程（N2)：100、200、500 sccm；（可根據用戶要求定制）

準確度：±1.5% F.S.

線性：±0.5～1.5% F.S.

重復精度：±0.2% F.S.

響應時間：氣特性：1～3 s，電特性：10 s

工作壓差范圍：0.1～0.5 MPa

最大壓力：3 MPa

接口：Φ6,1/3''

顯示：4位數字顯示

工作環境溫度：5~45高純氣體

內外雙拋不銹鋼管：Φ6

壓力真空表：－0.1～0.15 MPa，0.01 MPa/格

截止閥：Φ6

3. 低真空機組VAU-02型號：VRD-8

抽速：8 m3/h

極限真空度：5×10-1Pa

電源：220 V 50 Hz

電機功率：0.4 kW

進排氣連接口：KF25

用油量：0.6~1 L

電機轉速：1440 rpm

工作環境溫度：5~40 ℃

樣品要求：固體材料

注意事項：

1. 使用前請先放入絕熱塞子，絕熱塞子的位置可根據實際情況向外拉出，但兩邊塞子位置一定要對稱。

2. 降溫時請利用程序降溫，不建議直接按“stop”鍵降溫，設備溫度在500℃以上時不要直接關閉設備電源。

3.高溫爐爐管不建議正壓使用，如果要使用正壓壓強絕不允許超過0.02 Mpa。

儀器說明：

這款配置的低真空CVD系統集1200℃開啟式真空管式爐，多通道氣路系統和真空系統組成，有三個溫區，可預抽真空（有高真空、低真空），通多種氣氛（供氣系統有質子流量器和浮子流量控制器）。真空泵可選用進口設備，性能可靠?？刂齐娐愤x用模糊PID程控技術，具有控溫精度高，溫沖幅度小，性能可靠，簡單易操作等特點。CVD生長系統適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結等實驗?？赏夥粘檎婵?，其開啟式結構使得拆裝爐管方便，操作簡捷，使用者可直接將密封腔體移出爐體，加快降溫過程。爐管工件橫穿與8組進口電阻絲的爐膛，溫場均勻，內外溫差可控制在3℃左右，氣動彈簧支撐結構讓操作者可各角度安全開啟。